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1.新型雙面拋光機傳動結構設計
為實現新型雙面拋光機各部分運動，可以采用所示結構。上拋光盤7旋轉或固定，下拋光盤3由電機17通過皮帶、齒輪機構18、軸套23、下底板3帶動作旋轉運動;控制裝置控制內外運行裝置作等距離圓平動及公轉運動，各工件載體由內外運行裝置帶動作相同運動。控制裝置分為2部分，第1部分控制外運行裝置作圓平動(擺動)，伺服電機19通過齒輪傳動機構20馭動齒輪21.各外運動裝置22與各齒輪21固連，帶動多個外運動裝ff的轉盤運轉.使裝在轉盤上的外偏心臂同向同速旋轉;伺服電機13通過齒輪傳動機構12軸套24及齒輪25驅動齒輪6.各內運動裝置與各齒輪6固連.帶動多個內運動裝置的轉盤運轉.使裝在轉盤上的內偏心臂同向同速旋轉(或擺動)。

2.新型雙面拋光機運動分析
各載體運動相同，以單個載體的運動進行分析。坐標系下，若偏心臂以恒定角速度。勻速轉動，xoy是固定坐標系.其原點位于內外轉盤中心線的中點o.x,o,y為原點位于載體中心o’的動坐標系，隨載體一起作平動.動坐標系xoy內一坐標為(x,y)的定點在靜坐標系.xoy內對應的點為(x,y).則有（公式略）

3.結語
該新型雙面拋光機具有圓平動(或擺動)方式下恒速變向拋光的優點.且能把拋光壓力均勻壓在載體內的工件上，體積小，結構緊湊。具有較為理想的拋光軌跡形態以及恰當的拋光機的拋光軌跡密度分布，可以有效減少工件的畸變、減小拋光盤的磨損變形、減少拋光盤修整次數。提高工件的加工效率和加工精度.降低工件表面的粗糙度，為硅晶片獲得納米級加工精度的超光滑加工表面創造了有利條件。